М а т е р и а л ы X В с е р о с с и й с к о й н а у ч н о - п р а к т и ч е с к о й к о н ф е р е н ц и и
П о с в я щ а е т с я 1 0 0 - л е т и ю Р о с т и с л а в а Е в г е н ь е в и ч а А л е к с е е в а
327
В данном технологическом процессе используется контактное
совмещение фотошаблона с пластиной; это накладывает ряд существенных
ограничений на процесс.
Эмульсионные фотошаблоны в процессе совмещения контактируют
спленкой окисла, это вызывает разрушение защитного эмульсионного слоя и
повреждение пленки фоторезиста. В результате этого через царапины в
шаблоне в процессе экспонирования засвечивается фоторезист вне контура, что
в дальнейшем приводит к протравам и образованию брака.
Для снижения брака необходимо обеспечивать чистоту рабочей зоны –
для того, чтобы частицы пыли не прилипали к фотошаблону и пластине и не
вызывали дефекты поверхностных пленок.
Для этого вида совмещения в серийном производстве срок жизни
эмульсионного фотошаблона – около десяти совмещений. Есть два варианта
решения этой проблемы. Первый – использование бесконтактного совмещения.
Этот вариант предполагает закупку дорогостоящего оборудования, его наладку
и обучение персонала. Второй – использование металлизированных
фотошаблонов (рисунок 2). Эмульсионная пленка в них заменена пленкой
хрома. Срок жизни таких фотошаблонов – 50 совмещений.
Важным является соблюдение режимов фотолитографии:
- температуры и времени задубливания фоторезиста;
- времени экспонирования;
- освещенности ультрафиолета в зоне экспонирования;
- времени проявления и химического состава проявителя.
Основной причиной брака при фотолитографии является невозможность
напыления качественной пленки фоторезиста на профильные поверхности. При
нанесении фоторезиста методом центрифугирования (фоторезист подается на
вращающуюся пластину) резистивная пленка равномерно распределяется
только по нерельефной или слабо рельефной поверхности.
Рис 2. – Фотошаблон с хромовым покрытием.
