М а т е р и а л ы X В с е р о с с и й с к о й н а у ч н о - п р а к т и ч е с к о й к о н ф е р е н ц и и
П о с в я щ а е т с я 1 0 0 - л е т и ю Р о с т и с л а в а Е в г е н ь е в и ч а А л е к с е е в а
329
г) некачественной окисной пленки. Это приводит к появлению дефектов в
окисной пленке перед анизотропным травлением, что влечет за собой протравы
кремния, через дефекты окисла.
д) подтравов окисла под слой фоторезиста. Брак возникает при плохой
адгезии пленки фоторезиста и окисла кремния, при наличии микротрещин в
самом фоторезисте и на пластине. Для улучшения адгезии должны соблюдаться
технологические режимы химической очистки пластин и термического отжига.
Для улучшения качества пленки фоторезиста может применяться его
фильтрация перед нанесением.
В помещении, помимо запыленности, должна строго контролироваться
влажность, т.к. влажность влияет на растворимость позитивных засвеченных
фоторезистов в растворителе.
Существенной погрешностью при обработке монокремния является
несоответствие заложенных в фотошаблоне геометрических размеров и
размеров элементов конструкции. С технологической точки зрения подвес
является самым сложным компонентом конструкции чувствительного
элемента. Сложность заключается в невозможности промежуточного замера
толщины подвеса. Это означает, что только по окончании почти полного
технологического цикла производится замер толщины. Замер производится на
одном чувствительном элементе пластины. Напрямую замерить толщину
подвеса имеющееся в наличии оборудование не позволяет. Толщина замеряется
косвенным методом – методом резонансных частот недемпфируемых
колебаний маятника. Для этого кристаллический элемент закрепляется на
вибраторе, частота вибратора меняется генератором высокой частоты. В
момент наступления резонанса маятник резко отклоняется от начального
положения. Толщина подвеса функционально зависит от резонансной частоты.
Фактически определяется не толщина, а резонансная частота.
Нестабильность вышеперечисленных факторов (допуск на глубокое
травление, допуск на скорость анизотропного травления кремния –4,0 мкм/мин,
неравномерность толщины пластины) и обуславливает разброс толщины
подвеса.
Снижение данного вида брака обеспечивается применением химических
реактивов высшей марки чистоты и строго определенной рецептуры. Это
обеспечивает большую стабильность скорости травления. Разбивка пластин с
разной толщиной и сопротивлением на определенные группы приводит к
уменьшению разброса в скорости травления для пластин одной партии, что в
свою очередь приводит к уменьшению брака.
Кремниевый маятник является общей обкладкой дифференциальной
емкости, и при наличии неодинаковых зазоров в начальном (нулевом)
положении уже присутствует разбаланс дифференциальной емкости, что
приводит к появлению постоянного напряжения на выходе. Чувствительный
элемент с таким маятником требует корректировки нуля алгоритмическим (с
помощью алгоритма, заложенного в микроконтроллере) или механическим
