Стр. 79 - ПРОЕКТИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ В МАШИНОСТРОЕНИИ

66
установочную базу - используемую для лишения заготовки или изделия
трех степеней свободы, а именно, перемещения вдоль одной координатной оси
и поворотов вокруг двух других осей;
направляющую базу - используемую для лишения заготовки или изделия
двух степеней свободы, а именно, перемещения вдоль одной координатной оси
и поворота вокруг другой оси;
опорную базу - используемую для лишения заготовки или изделия либо
перемещения вдоль координатной оси либо поворота вокруг оси;
двойную направляющую базу - используемую для лишения заготовки или
изделия четырех степеней свободы, а именно, перемещения вдоль двух коорди-
натных осей и поворота вокруг этих осей;
двойную опорную базу - используемую для лишения заготовки или изде-
лия двух степеней свободы, а именно, перемещение вдоль двух координатных
осей.
По характеру проявления различают:
явную базу - базу в виде реальной поверхности, разметочной риски или
точек пересечения рисок;
скрытую базу - базу в виде воображаемой плоскости, оси или точки.
Классификация баз в виде схемы представлена на рис. 1.13.
Рис. 1.13. Классификация баз