Нагревательные печи и устройства
245
Разряд емкости происходит на первичную обмотку импульсного
высоковольтного трансформатора ИТ через управляемый в импульс-
ном режиме тиратрон
VО
. Амплитуда импульса на разрядном проме-
жутке достигает 30 – 40 кВ, что приводит к эффективной ионизации
газа в газоразрядной трубке. Частота следования импульсов разряда 10,
25, 50 и 100 имп/с.
Рис. 9.21 Схема источника питания газового лазера:
С
н – накопительная емкость; ИТ – импульсный трансформатор;
VO
– импульсный тиратрон; ЗИ – запускающий импульс от блокинг-генератора;
ГЛ – газовый лазер
9.4. Установка низкотемпературного плазменного нагрева
Установки низкотемпературного плазменного нагрева используют
приспособления, называемые плазмотронами. Низкотемпературная плаз-
ма в них образуется при пропуске инертного газа через электродуговой
или высокочастотный разряды. Соответственно плазмотроны называют
дуговыми или высокачастотными. Преимущество получили первые.
Схема дугового плазмотрона представлена на рис. 9.22. Для полу-
чения плазмы газ подводится по полому электроду
1
в камеру
2
с водо-
охлаждаемыми стенками. Вторым электродом является торцевая, тоже
водоохлаждаемая стенка
4
, в центре которой находится выходное со-
пло. При возникновении между электродами дуги газ ионизируется и
выходит из сопла в виде плазмы при температуре 10000 – 20000
0
С и
выше. Для дополнительного охлаждения стенок камеры и электродов
подводят газ через трубку
3
.
