Нагревательные печи и устройства
244
системой автоматизированного электропривода на основе многокоорди-
натного шагового электропривода, управляемого микропроцессором
16
.
В таких процессах лазерного упрочнения поверхности, как терми-
ческое упрочнение, отжиг, термическое упрочнение с оплавлением,
аморфизация поверхности, микролегирование, наплавка, шоковое уп-
рочнение, нет необходимости в применении прецизионных систем по-
ложения изделия. Для управления положением лазерного луча на по-
верхности обрабатываемого материала можно использовать обычные
электромеханические системы поворота и перемещения отражающих
зеркал и изделия.
Для управления интенсивностью лазерного излучения в техноло-
гических установках используют УСЭП газоразрядной трубки в газо-
вых лазерах или лампы накачки активного элемента в твердотельных
лазерах. Как в одном, так и в другом случае нагрузка источника пита-
ния является резконелинейной и требует создания специальных систем
электропитания, обеспечивающих устойчивый газовый разряд. Пер-
спективными являются схемы источника питания лазеров без балласт-
ного резистора, устойчивость разряда в которых обеспечивается кру-
топадающей характеристикой, создаваемой параметрическими мето-
дами или с помощью автоматической системы.
На рис. 9.20 приведена схема источника питания на основе индук-
тивно-емкостного преобразователя (ИЕП) для твердотельного лазера
марок САС-10-1, "Квант-9", "Квант-210", "Корунд", которая может
быть применена и для питания газоразрядной трубки СО
2
-излучателя
газового лазера типа ЛГ-25.
Рис. 9.20. Схема источника питания твердотельного лазера
на основе индуктивно-емкостного преобразователя:
L
р
– лампа накачки;
VS
1 и
VS
2 – тиристоры; Т – транзистор;
С
н – накопительная емкость;
L
1
,
L
2
– дроссель
На рис. 9.21 показана схема источника питания излучателя газового
лазера типа ЛГИ, работающего в импульсном режиме. Накопительная ем-
кость
С
н
источника заряжается от источника постоянного тока, выполнен-
ного по схеме удвоения напряжения до уровня порядка 10 кВ.
